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氧化鋁拋光液的產(chǎn)品特點(diǎn)和作用
更新時間:2021-07-27   點(diǎn)擊次數(shù):1405次
  化學(xué)機(jī)械拋光(ChemicalMechanicalPolishing,CMP)技術(shù)是提供全局平坦化的表面精加工技術(shù),其中拋光液是CMP技術(shù)中的關(guān)鍵因素。隨著我國藍(lán)寶石襯底片產(chǎn)量的增大,氧化鋁拋光液在藍(lán)寶石拋光中的應(yīng)用顯得更為重要,拋光液能一次完成藍(lán)寶石、碳化硅晶片的研磨和拋光,大大提高拋光效率。
 
  氧化鋁拋光液是一種新的工藝,α-氧化鋁(剛玉)的硬度高,穩(wěn)定性好,納米級的氧化鋁適用于光學(xué)鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等的精密拋光,應(yīng)用相當(dāng)廣泛。拋光液主要由磨料、溶劑和添加劑組成,其種類、性質(zhì)、粒徑大小、顆粒分散度及穩(wěn)定性等與最終拋光效果密切相關(guān)。拋光液的優(yōu)點(diǎn)是拋光速率高,材料去除速率高,選擇性、分散性好,機(jī)械磨損性能較好,化學(xué)性質(zhì)活潑,并且后清洗過程處理較容易。
 
  使用氧化鋁拋光液的時候應(yīng)該先將拋光液澆注到拋光布表面進(jìn)行拋光。由于氧化鋁比較容易沉淀,使用時需要搖勻才開始使用效果更佳。拋光液產(chǎn)品特點(diǎn):
 
  1.懸浮性好,不易沉淀,使用方便。
 
  2.分散均勻,不團(tuán)聚,軟硬度適中,有效避免拋光過程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷缺陷。
 
  3.運(yùn)用拋光過程中的化學(xué)新作用,提高拋光速度,改善拋光表面的質(zhì)量。
 
  4.分散性好、乳液均一,能在一定程度上提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率,可以提高拋光精度。
 
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